离子束技术及应用

作者简介

本书介绍离子束技术及应用。全书共分六章，其中包括：电子轰击离子源等离子体特性及设计基础；离子光学系统及基本设计方法；离子源结构设计优化法；离子源阴极的设计方法；离子束刻蚀（IBE）工艺基础；离子束刻蚀的应用及其发展。

本书是作者多年来从事这方面科研工作的总结。取材新颖，理论联系实际，在阐明基本理论及物理概念的基础上，介绍实用离子源的基本设计方法及基本工艺应用原理，并提供了丰富的实用范例。可供从事离子束刻蚀研究的科技人员及设备使用者阅读，也可供大专院校有关专业师生参考。

书籍目录

第一章  电子轰击离子源等离子体特性及设计基础  1

第一节  等离子体特性参数  4

第二节  离子源的电效率及气体利用率  28

第二章  离子光学系统及基本设计方法  46

第一节  双栅离子光学系统  48

第二节  谐振电荷交换及束流修正  67

第三节  束流均匀性及特殊离子光学系统  72

第四节  三栅和单栅离子光学系统  80

第五节  栅板热稳定性研究  89

第三章  离子源结构设计优化法  93

第一节  多板场离子源放电室结构及磁场  94

第二节  发散场离子源放电室结构及磁场  107

第三节  其他几种宽束离子源  126

第四章  离子源阴极的设计方法  141

第一节  放电室阴极和浸没式中和阴极  142

第二节  空心阴极  149

第三节  氩等离子体桥式中和器（PBN）  161

第四节  磁挡板  168

第五章  离子束刻蚀（IBE）工艺基础  172

第一节  IBE在干法刻蚀工艺中的地位  177

第二节  离子溅射效应  179

第三节  IBE刻蚀速率及入射角效应  188

第四节  离子轰击引起的材料损伤和温度效应  217

第五节  工质气体的作用及IBAE方法

第六节  离子束刻蚀均匀性及终点检测方法  249

第七节  掩模特性对IM图形轮廓的影响  267

第六章  IBE在器件制造中的应用  271

第一节  离子束刻蚀在多种器件制造工艺中的应用  271

第二节  宽束离子源应用中的一些问题  309

参考文献  314

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